Εξοπλισμός πλάσματος LED RF

Ο εξοπλισμός LCD RF Plasma έχει σχεδιαστεί ειδικά για την επεξεργασία επιφανειών εξαρτημάτων οθόνης υγρών κρυστάλλων και σχετικών ηλεκτρονικών υλικών. Οι συνολικές διαστάσεις του μηχανήματος είναι 900W × 1750H × 1200D (mm). Ο θάλαμος κενού του, κατασκευασμένος από ανθεκτικό ανοξείδωτο χάλυβα, έχει διαστάσεις 450 × 300 × 450 mm και φιλοξενεί έως και έξι στοιβαγμένους δίσκους σε μία παρτίδα. Αυτή η διαμόρφωση επιτρέπει στο σύστημα να υποστηρίζει τόσο πιλοτικά πειράματα-κλίμακας όσο και βιομηχανική παραγωγή μεγάλου{10}όγκου.

 

Για τη λειτουργική προοπτική, ο εξοπλισμός ενσωματώνει-ηλεκτρικά εξαρτήματα υψηλής ποιότητας που προέρχονται από διεθνώς αναγνωρισμένες μάρκες, εξασφαλίζοντας μακροπρόθεσμη-λειτουργική σταθερότητα. Το σύστημα παρέχει χειροκίνητες και πλήρως αυτοματοποιημένες λειτουργίες, επιτρέποντας ευελιξία στη λειτουργία. Μια-δομή διαχείρισης αρχών τριών επιπέδων-που καλύπτει την πρόσβαση χειριστή, μηχανικού και προηγμένων χρηστών-εξασφαλίζει την ασφαλή παραγωγή και αποτρέπει τις μη εξουσιοδοτημένες προσαρμογές. Για την ιχνηλασιμότητα της παραγωγής, το μηχάνημα διαθέτει ένα ενσωματωμένο σύστημα αναφοράς, το οποίο καταγράφει αυτόματα και δημιουργεί αντίγραφα ασφαλείας των δεδομένων διεργασίας σε μηνιαία βάση. Οι χρήστες μπορούν να αποθηκεύσουν και να ανακαλέσουν απεριόριστο αριθμό συνταγών διαδικασίας, παρέχοντας βολική προσαρμοστικότητα για διαφορετικά προϊόντα και εφαρμογές.

Η διαμόρφωση του πυρήνα του συστήματος υιοθετεί αγωγούς και φυσούνες από ανοξείδωτο χάλυβα, μαζί με προσαρμοσμένες βαλβίδες κενού GDQ για αποτελεσματικό έλεγχο των καυσαερίων. Η μέτρηση κενού πραγματοποιείται με μετρητή κενού αντίστασης Pirani, που εξασφαλίζει ακριβείς και σταθερές μετρήσεις. Περιλαμβάνεται μια βαλβίδα πύλης υψηλής-κενού για την απομόνωση του θαλάμου. Το σύστημα ελέγχου βασίζεται στο Mitsubishi PLC με μονάδες επέκτασης, παρέχοντας ακριβή και αξιόπιστη διαχείριση παραμέτρων διαδικασίας.

Όσον αφορά τις τεχνικές προδιαγραφές, ο εξοπλισμός προσφέρει τρία κανάλια αερίου, που υποστηρίζουν άζωτο (N2), αργό (Ar), υδρογόνο (H2) και οξυγόνο (O2). Το επίπεδο κενού ελέγχεται μεταξύ 10–50 Pa, με διακύμανση πίεσης να διατηρείται εντός 5%. Οι ρυθμοί ροής αερίου μπορούν να ρυθμιστούν εντός του εύρους 0–200 sccm. Οι διεπαφές αζώτου ψύξης, πεπιεσμένου αέρα και αερίου διεργασίας λειτουργούν με ασφάλεια στα 0,45 MPa ή χαμηλότερα. Ο τρόπος επεξεργασίας πλάσματος είναι απευθείας πλάσμα, με εναλλασσόμενα ηλεκτρόδια ανόδου και καθόδου. Μεταξύ δύο και τεσσάρων ομάδων ηλεκτροδίων μπορούν να εγκατασταθούν ταυτόχρονα. Κάθε ηλεκτρόδιο έχει ενεργό εμβαδόν επιφάνειας 380 × 310 mm και η απόσταση μεταξύ των ηλεκτροδίων είναι ρυθμιζόμενη, με τυπικό εύρος 2,5 cm.

Σε βιομηχανικές εφαρμογές, αυτός ο εξοπλισμός είναι ιδιαίτερα πολύτιμος για τον καθαρισμό επιφανειών πριν από τις διεργασίες ενθυλάκωσης (χύτευσης). Η επεξεργασία πλάσματος απομακρύνει τους οργανικούς ρύπους και ενεργοποιεί την επιφάνεια του υποστρώματος, αυξάνοντας αποτελεσματικά την επιφάνεια επαφής και την αντοχή πρόσφυσης. Αυτό αποτρέπει την αποκόλληση ή τον διαχωρισμό κατά τη χύτευση και συμβάλλει στην υψηλότερη αξιοπιστία του προϊόντος. Με τον στιβαρό σχεδιασμό, τις προηγμένες λειτουργίες ελέγχου και την ακριβή απόδοση της διαδικασίας, το σύστημα παρέχει σταθερά, επαναλαμβανόμενα αποτελέσματα επεξεργασίας πλάσματος, καθιστώντας το ιδανική λύση για την κατασκευή πάνελ LCD καθώς και για εφαρμογές συσκευασίας ημιαγωγών.

Δημοφιλείς Ετικέτες: led rf plasma εξοπλισμός, Κίνα led rf plasma κατασκευαστές εξοπλισμού, εργοστάσιο